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溫控系統-溫度均一化解決方案

升溫均衡、精度更高、控制效果更佳

溫度均一化控制是通過(guò)對多個(gè)溫區的升溫速度的控制,從而避免溫度的超調和波動(dòng),可應用于鋰電池真空烤箱、晶圓加工、光伏燒結爐、光伏烘干爐、注塑成型、壓縮成型、擠出成型、玻璃熱彎等行業(yè)。

行業(yè)背景

溫度作為生產(chǎn)工藝中的重要指標,若升溫速度不一致,將直接導致溫度出現超調和波動(dòng),從而影響到產(chǎn)品的加工工藝,導致良品率下降。

溫度均一化控制是通過(guò)對多個(gè)溫區的升溫速度的控制,從而避免溫度的超調和波動(dòng),可應用于鋰電池真空烤箱、晶圓加工、光伏燒結爐、光伏烘干爐、注塑成型、壓縮成型、擠出成型、玻璃熱彎等行業(yè)。

系統原理

溫度均一化控制技術(shù)通過(guò)對多個(gè)溫區的升溫速度進(jìn)行控制,有效抑制相鄰通道間的相互干擾,同時(shí)能夠保證整個(gè)加熱過(guò)程中,各溫區間的溫差保持不變,實(shí)現對被控對象的均勻加熱,達到提高產(chǎn)品的加工質(zhì)量、降低能耗的效果。

控制方案

溫控系統一溫度均一化解決方案共分為兩部分,包括有均一化解耦與優(yōu)化部分(工藝層)、PID控制部分(控制層)。PID控制部分輕松保證加工速度;均一化解耦與優(yōu)化部分可確保多溫區耦合作用下,依舊實(shí)現包含過(guò)渡響應在內的溫區耦合均一性。

整個(gè)解決方案采取模塊化編程,將均一化工藝層與PID控制層進(jìn)行模塊化,可將工藝層靈活搭配信捷PID指令,滿(mǎn)足不同場(chǎng)景的客戶(hù)需求;整個(gè)過(guò)程調試時(shí)間短,僅需簡(jiǎn)單設定即可實(shí)現均一化參數,輕松解決加熱不均勻問(wèn)題,實(shí)現每個(gè)溫區升溫速度的統一。

方案優(yōu)勢

升溫均衡

升溫均衡,對多個(gè)溫區進(jìn)行同步控制,實(shí)現不同溫區的均勻加熱

抑制溫差

抑制溫差,不同溫區之間的差值是傳統PID方案的1/5

低超調量

低超調量,不同溫區同時(shí)到達溫度目標值,超調量更??;

低穩態(tài)誤差

低穩態(tài)誤差,在恒溫階段的溫度波動(dòng)是傳統PID方案的1/5,控制效果更佳

高精度溫控

高精度溫控,采集精度:0.3%,采集分辨率:0.01℃

調試更便捷

易調試,采用模塊化封裝的指令,配合專(zhuān)用調試軟件,調試更加便捷

系統拓撲

調查問(wèn)卷

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